分会委员杨国强

中科院化学所副所长、研究员

分会委员史方

中科院上海微系统与信息技术研究所所长助理

分会委员张卫

复旦大学微电子学院副院长

分会委员赵超

中国科学院微电子所研究员

分会主席杨德仁

浙江大学硅材料国家重点实验室主任

分会主席宋志棠

中科院上海微系统与信息技术研究所所长助理

分会主席王曦

中科院上海微系统与信息技术研究所所长

邀请报告嘉宾张宪民

东北大学 材料各向异性与织构教育部重点实验室

邀请报告嘉宾项金娟

中国科学院微电子研究所工程师

上海博康精细化工有限公司潘新刚

报告题目:电子束光刻胶中的聚合物材料  报告简介:在微电子工艺和纳米加工中,电子束光刻胶是比较常用的高分辨率的图形掩模材料。电子束光刻胶的重要材料是有机聚合物。文中论述了各种用于电子束光刻胶的聚合物材料,从聚合物的单体结构,聚合物的不同组成,分子量范围及其分布,以及在电子束光刻胶中的表征,说明了他们对于电子束光刻胶性能的影响。光刻工艺的变化对于聚合物材料在光刻时的表现也起着重要的作用。作者最后列举

邀请报告嘉宾王桂磊

中国科学院微电子研究所先导工艺研发中心工程师

邀请报告嘉宾狄增峰

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员