行业报告
2015年硅衬底材料产业数据统计报告
2015年硅衬底材料产业数据统计报告
本报告以中国市场要求为基础，采用最新的数据，分别从产业规模、产品生产能力、研发和产业发展投入、专利情况、从业人员情况等方面对国内硅衬底材料产业进行分析。报告完成于2016年11月。报告目录：1我国硅衬底材料总体产业规模2硅衬底材料行业主要产品生产能力3我国硅衬底材料行业研发投入情况4硅衬底材料行业产业发展投入5硅材料行业拥有专利情况6硅材料产业从业人员状况图表目录图12005-2016年硅衬底材料
全球光刻胶专利按有效专利拥有量排名前十的专利权人如下图所示，依次为日本东京应化、日本信越化学、美国陶氏化学、日本住友化学、日本富士胶片、美国安智电子、日本合成橡胶、韩国东进世美肯、美国IBM、韩国三星电子。其中日本企业5家，美国企业3家，韩国企业2家。各个公司光刻胶专利申请量、法律状态、公开国情况、尤其是技术特长有很大的差别。 材料和零部件联盟对全球光刻胶专利进行了系统而深入的分析，包括全球
全球光刻胶研制专利共5483件，其中光刻胶用树脂专利为3726件，这些树脂专利的具体分类及各类专利所占比例见上图。目前光刻胶用树脂专利中G、I线，248nm，193nm，DUV，浸没式193nm光刻胶占树脂专利的88%，其中DUV是指既可用于248nm光刻胶也可用于193nm光刻胶的树脂专利，浸没式193nm是指专门用于浸没式193nm光刻胶的树脂专利。目前产业界中产值最大的光刻胶也主要是G、I线
全球光刻胶及相关材料专利共计5483件,这些专利涵盖了光刻胶制备及应用所需材料各方面的专利，包括光刻胶用树脂、单体、光产酸剂、添加剂、配套试剂、辅助材料及其生产工艺，各类专利所占比例见上述分类图。可见树脂所占比例最大，为业内光刻胶技术最关注的方面，其次是光产酸剂、配套试剂和辅助材料。图二为全球光刻胶专利按最早申请年的申请量分布情况，最早的光刻胶专利申请始于1962年，1979年左右开始稳步增长，2
全球光刻胶研制专利主要分布在日本、美国、韩国、中国、欧洲和台湾六大地区，且各地区光刻胶专利量所占比例见上图所示。从图中可看出六大地区光刻胶专利拥有量差别很大，最多的为日本，其次为美国，然后是韩国、中国、欧洲和台湾。各地区光刻胶专利申请趋势、法律状态、公开国状态、所属专利权人及引用情况、技术特征等差别也都很大。 材料和零部件联盟对全球光刻胶专利进行了系统而深入的分析，包括全球光刻胶研制专利概况;欧
本报告以中国市场要求为基础，采用最新的数据，分别从产业规模、产品生产能力、研发和产业发展投入、专利情况、从业人员情况等方面对国内硅衬底材料产业进行分析。报告完成于2014年12月。 报告目录： 前言硅衬底材料产业简介 1硅单晶抛光片 2硅单晶外延片 3硅单晶退火片 4区熔硅单晶片 5SOI晶片 1我国硅衬底材料总体产业规模 2硅衬底材料行业主要产品生产能力 3我国硅衬底材料行
