产品描述
邓海，2014年2月起任光刻公司TOK的fellow。在此之前，一直在Intel公司的芯片尖端光刻材料部门担任感光高分子材料的研制、开发和应用的高级主任工程师，Program manager。在Intel期间，和德克萨斯州(University of Texas)著名的Grant Willson教授研究室，康乃尔大学(Cornell University)的Ober教授研究室、大阪大学的Tagawa教授研究室，以及美国国际标准局(NIST)进行协作科研。和Ober合作，用分子玻璃光刻50纳米以下线条的论文，被Science杂志编入Editor’s Choice。从此分子玻璃成为EUV领域的热门，影响了EUV光刻胶的研发进程。
报告题目：Patterning Technology Trendsand New Material Challenges
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