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邀请报告嘉宾丁玉强
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丁玉强,江南大学,1967年生,2002年在德国哥廷根大学获自然科学博士学位(Dr.rer.nat.),并分别在哥廷根大学和德国马普煤炭研究所从事博士后研究工作,2004年被江南大学聘为教授,2006年入选教育部“新世纪优秀人才”,2007年入选江苏省“333高层次人才培养工程”首批中青年科学技术带头人,曾任江南大学化学与材料工程学院副院长(2007-2013),教育部化学类教指委委员(2013-2017),中国化工学会无机酸碱盐专业委员会学术带头人(2012-2016)。主要从事新型金属有机化合物与先进电子材料的合成与应用研究,在国际权威期刊上发表研究论文70余篇,申请发明专利20余件。
报告题目: 原子层沉积铝前驱体的设计与合成研究
报告简介:
在原子层沉积(ALD)工艺技术中,前驱体的性质至关重要,如热稳定性、挥发性和耐分解性,而铝前驱体的稳定性一直是半导体技术领域的一个难题,从而限制了本技术领域的发展。
本文以氨基吡啶及其衍生物与铝烷为原料合成了一系列新型原子层沉积铝前驱体。将制备的铝前驱体与三甲胺铝烷(TMAA)、二甲基乙胺铝烷(DMEAA)及二甲基氢化铝(DMAH)进行对比。
研究结果表明,新型铝前驱体在一定条件下能够形成稳定性更高、挥发性更低的二聚体化合物(冷冻状态),便于储存、运输以及后续的使用;且当温度升高时,又可转化为挥发性较高且不易分解的前驱体化合物(解冻状态)。
此类铝前驱体可通过ALD技术制备金属薄膜、含铝的氧化物薄膜、含铝的氮化物薄膜、含铝的合金薄膜,成为潜在的重要铝前驱体。
丁玉强(右)
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