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邀请报告嘉宾杨国强
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邀请报告嘉宾杨国强

中国科学院化学研究所副所长
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  杨国强,中国科学院化学研究所副所长,党委副书记,纪委书记,研究员,博士生导师,分子反应动力学实验室主任。1985年于北京大学化学系获得理学学士学位,1988年、1991年于中国科学院感光化学研究所获得理学硕士学位、博士学位。1992年至1993年日本京都大学博士后、日本学术振兴会(JSPS)博士后研究员,1996年至1999年美国依利诺伊大学(University of Illinoisat Urbana-Champaign)化学系博士后、研究助理。1998年入选中国科学院百人计划。

  在有机光功能化合物的设计、合成、性能及其作用机理方面开展研究,包括分子结构、超分子结构和聚集态结构对发光性质和非线性光学性质的影响,环境条件(包括超高压条件)对发光性质和电子结构的影响及其作用机理、新型荧光探针体系的设计和性能研究等。发表研究论文180余篇,申请中国发明专利15项,国际专利2项。现任中国化学会常务理事、秘书长、光化学专业委员会副主任,亚洲大洋洲光化学理事会理事,J.Photochem.Photobiol.A:Chem.助理主编、编委、《影像科学与光化学》、《高压物理学报》编委。

  报告题目:超高精细光刻中的抗反射层进展

 

 

杨国强(右)

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