产品描述
教授，北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理。1982年毕业于北京化工大学，先后在化工部兰州化工研究院、北京燕山石化公司研究院从事科研工作；1985年赴美留学；1990年毕业于美国麻州大学高分子化学专业，毕业论文获得当年ANTEC的最佳学生论文奖；1992年进入美国的Shipley公司开始进入光刻胶领域从事248nm 光刻胶的研发工作。1993年与另外两名股东共同创建美国的MCC公司继续其对光刻胶的研究，曾作为专题负责人数次申请到美国NSF，英国DRA出资的研究项目，并且获得美国2002/2003年度有贡献的专业人士奖。2003年创建美国MENG TECHNOLOGY公司，2004年在中国创建北京科华微电子材料有限公司，专业从事高档光刻胶的研发和生产。2010年建成248nm光刻胶中试线、建立能够满足高档248nm深紫外光刻胶研发及测试平台。2014年248nm光刻胶正式进入中国市场，并取得了国内集成电路制造企业的订单。