产品描述
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仪器设备信息 |
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仪器名称 |
中文：聚焦离子束扫描电子显微镜 |
仪器型号 |
GAIA3 XMH |
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英文：FIB-SEM |
产地及生产厂家 |
Tescan |
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所属单位 |
上海新阳半导体材料股份有限公司 |
购置时间 |
2018年9月 |
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放置地点 |
上海市松江区思贤路3600号 |
仪器状态 |
正常 |
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设备应用范围/仪器测量范围（公差） |
主要用途：1.用于各种材料的成像及电镀工艺节点分析和清洗效果确认； 2.通过二次离子成像进行腐蚀生长学的研究； 3.进行细小的特殊结构的刻蚀及镀膜。 仪器特点：1.可实现15KeV下0.7nm，1KeV下1nm的超高纳米分辨率； 2.扩展的低真空模式使样品真空可达500Pa，用于非导电试样的观察； 3.FIB 最佳分辨率<2.5nm； 4.FIB的Cobra光学系统，Ga离子源可提供1pA到50nA的离子束流。 |
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是否通过第三方机构定期校准 |
否 |
已获取CNAS认证 |
否 |