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300mm硅片工艺用Ta靶材
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300mm硅片工艺用Ta靶材

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宁波江丰电子材料股份有限公司
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1、纯度≥99.995%;

2、焊接合格率≥99%;

3、加工精度0.1mm;

4、溅射面粗糙度≤0.4um 

5、晶粒≤100um 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
暂未实现,敬请期待
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