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全球光刻胶专利分析报告(2019版)简介

全球光刻胶专利分析报告(2019版)简介

来源:
2019/06/03
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      光刻胶是集成电路制造光刻工艺的核心材料,是国家重点支持发展的集成电路材料,掌握光刻胶研制专利全球布局情况将对中国光刻胶产业的发展有很大的帮助。《全球光刻胶专利分析报告(2019版)》基于全球知名的专利检索分析系统,对系统所含数据库从最早检索年份1782年至2019年5月全球光刻胶研制的相关专利进行了全面检索,并进行了详细深入的分析,分析从以下五大方面展开:全球光刻胶研制专利分析;欧洲、美国、日本、韩国、中国、台湾六大地区光刻胶研制专利总况比较;光刻胶不同种类专利状况分析;全球十大光刻胶研制公司专利状况深度分析;中国光刻胶专利状况分析。在分析中引入了专利申请量、专利申请趋势、专利法律状态、专利分布区域、专利权人分布、专利权人引用状况、专利IPC分类申请趋势、专利核心概念、专利地图、技术领域分类表、核心专利分析、专利权人共申请专利情况、顶级专利权人技术定位、专利分类表等近20个度量指标对专利进行全面分析,揭示了该技术领域中一些非常有价值的信息,进一步阐述了光刻胶领域的核心技术,并分析了中国光刻胶研制专利总况,及与国外的差距,提出中国光刻胶专利全球布局的建议。
      《全球光刻胶产业专利分析报告》共计974页,图共计274个,表共计106个,并附8065件光刻胶专利全文。为从事光刻胶研发、生产、投资的企事业单位在战略制定、技术定位、产品开发等方面提供了非常有价值的参考信息。
      如有需要请联系:王艳梅 010-82357517 / 18701286298

 

报告目录
第一章 前言 8
第二章 光刻胶研制专利检索分析方法说明 12
2.1数据库选择 12
2.2专利检索分析方法 12
第三章 全球光刻胶研制专利总体情况分析 13
3.1光刻胶专利申请总量分析 13
3.2光刻胶专利申请趋势分析 13
3.3光刻胶专利法律状态分析 14
3.4光刻胶专利分布区域分析 16
3.5专利权利人分布情况分析 17
3.6专利权人引用状况分析 19
3.7专利技术背景总体深度分析 21
3.7.1 技术领域分类表 21
3.7.2 ORBIT系统技术领域分析 22
3.7.3顶级参与者技术定位 23
3.7.4专利地图 26
3.8全球光刻胶研制专利情况总结 28
第四章 欧、美、日、韩、中、台专利总况比较 29
4.1光刻胶专利申请总量比较 29
4.2光刻胶研制专利申请趋势比较 29
4.3 光刻胶专利法律状态分析比较 32
4.4 光刻胶专利公开国分布比较 35
4.5 光刻胶专利权人及其专利引用状况分析 46
4.6 专利技术背景总体深度分析比较 54
4.6.1专利分类表 55
4.6.2 IPC分类随申请年代的分布情况 62
4.6.3顶级专利权人技术定位 69
4.6.4专利地图 72
4.7 中、美、日、欧、韩、台专利总况比较 77
第五章 光刻胶分类专利状况分析 79
5.1 G,I线、紫外宽谱光刻胶专利分析 79
5.1.1 光刻胶专利申请总量分析 79
5.1.2专利申请趋势分析 79
5.1.3专利法律状态分析 80
5.1.4专利分布区域分析 82
5.1.5专利权人分布分析 84
5.1.6紫外宽谱、G线、I线专利技术背景总体深度分析 86
5.1.7紫外宽谱、G线、I线技术总结与发展趋势预测 110
5.2 248nm光刻胶专利分析 111
5.2.1 光刻胶专利申请总量分析 111
5.2.2专利申请趋势分析 113
5.2.3专利法律状态分析 114
5.2.4专利分布区域分析 116
5.2.5专利权人分布分析 118
5.2.6 248nm专利技术背景总体深度分析 120
5.2.7 248nm光刻胶技术总结与发展趋势预测 219
5.3 193nm光刻胶专利分析 221
5.3.1光刻胶专利申请总量分析 221
5.3.2专利申请趋势分析 222
5.3.3专利法律状态分析 223
5.3.4专利分布区域分析 225
5.3.5专利权人分布分析 227
5.3.6 193nm专利技术背景总体深度分析 230
5.3.7 193nm光刻胶技术总结与发展趋势预测 344
5.4 光刻胶配套用抗反射膜 346
5.4.1光刻胶配套用抗反射膜专利申请总量分析 346
5.4.2专利申请趋势分析 347
5.4.3专利法律状态分析 347
5.4.4专利分布区域分析 350
5.4.5专利权人分布分析 352
5.4.6光刻胶配套用抗反射膜专利技术背景总体深度分析 354
5.4.7光刻胶配套用抗反射膜技术总结与发展趋势预测 389
第六章 全球十大光刻胶研制公司专利状况深度分析 391
6.1东京应化工业株式会社(TOK,TOKYO OHKA KOGYO) 391
6.1.1 光刻胶专利申请总量分析 391
6.1.2光刻胶专利申请趋势分析 391
6.1.3光刻胶专利法律状态分析 392
6.1.4光刻胶专利分布区域分析 394
6.1.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 396
6.1.6光刻胶核心专利分析 398
6.1.7 TOK公司光刻胶专利情况总结 442
6.2信越化学工业株式会社(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 443
6.2.1光刻胶专利申请总量分析 443
6.2.2光刻胶专利申请趋势分析 443
6.2.3光刻胶专利法律状态分析 444
6.2.4光刻胶专利分布区域分析 446
6.2.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 448
6.2.6光刻胶核心专利分析 450
6.2.7信越化学工业株式会社光刻胶专利情况总结 500
6.3陶氏化学(DOW Chemical Company) 500
6.3.1 光刻胶专利申请总量分析 500
6.3.2光刻胶专利申请趋势分析 501
6.3.3光刻胶专利法律状态分析 502
6.3.4光刻胶专利分布区域分析 504
6.3.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 506
6.3.6光刻胶核心专利分析 508
6.3.7陶氏化学光刻胶专利情况总结 538
6.4住友化学工业株式会社(Sumitomo Chemical CO. LTD) 538
6.4.1光刻胶专利申请总量分析 538
6.4.2光刻胶专利申请趋势分析 539
6.4.3光刻胶专利法律状态分析 540
6.4.4光刻胶专利分布区域分析 542
6.4.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 544
6.4.6光刻胶核心专利分析 547
6.4.7 住友化学工业株式会社光刻胶专利情况总结 596
6.5富士胶片株式会社(Fujifilm CO. LTD) 597
6.5.1 光刻胶专利申请总量分析 597
6.5.2光刻胶专利申请趋势分析 597
6.5.3光刻胶专利法律状态分析 598
6.5.4光刻胶专利分布区域分析 601
6.5.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 602
6.5.6光刻胶核心专利分析 605
6.5.7 富士胶片株式会社光刻胶专利情况总结 639
6.6美国安智电子材料(AZ ELECTRONIC MATERIAL) 640
6.6.1 光刻胶专利申请总量分析 640
6.6.2光刻胶专利申请趋势分析 640
6.6.3光刻胶专利法律状态分析 641
6.6.4光刻胶专利分布区域分析 643
6.6.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 645
6.6.6光刻胶核心专利分析 647
6.6.7 安智电子材料公司光刻胶专利情况总结 667
6.7日本合成橡胶工业株式会社(Japan Synthetic Rubber Co. Ltd, JSR) 668
6.7.1 光刻胶专利申请总量分析 668
6.7.2光刻胶专利申请趋势分析 668
6.7.3光刻胶专利法律状态分析 669
6.7.4光刻胶专利分布区域分析 672
6.7.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 673
6.7.6光刻胶核心专利分析 676
6.7.7 日本合成橡胶公司光刻胶专利情况总结 712
6.8韩国东进世美肯株式会社(DONGJIN SEMICHEM CO. LTD) 712
6.8.1 光刻胶专利申请总量分析 712
6.8.2光刻胶专利申请趋势分析 713
6.8.3光刻胶专利法律状态分析 714
6.8.4光刻胶专利分布区域分析 716
6.8.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 718
6.8.6光刻胶核心专利分析 720
6.8.7 韩国东进世美肯光刻胶专利情况总结 740
6.9美国国际商业机器公司(IBM) 741
6.9.1光刻胶专利申请总量分析 741
6.9.2光刻胶专利申请趋势分析 741
6.9.3光刻胶专利法律状态分析 742
6.9.4光刻胶专利分布区域分析 745
6.9.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 747
6.9.6光刻胶核心专利分析 749
6.9.7 IBM公司光刻胶专利情况总结 758
6.10韩国三星电子(SUMSUNG) 759
6.10.1 光刻胶专利申请总量分析 759
6.10.2光刻胶专利申请趋势分析 759
6.10.3光刻胶专利法律状态分析 760
6.10.4光刻胶专利分布区域分析 762
6.10.5光刻胶专利技术背景总体深度分析 764
6.10.6光刻胶核心专利分析 766
6.10.7 SUMSUNG公司光刻胶专利情况总结 785
第七章 中国光刻胶研制专利状况分析 786
7.1 中国光刻胶专利申请总量分析 787
7.2 中国光刻胶专利申请趋势分析 787
7.3 中国光刻胶专利法律状态分析 789
7.4专利权人分布情况分析 792
7.5专利技术背景总体深度分析 794
7.5.1技术领域 794
7.5.2 IPC分类按公开年代的变化趋势 795
7.5.3前三十家专利权人技术定位 796
7.5.4专利权人引用关系 799
7.5.5关键技术指标 800
7.5.6专利地图 960
7.6 中国光刻胶研制专利情况总结 961
第八章 光刻胶产业技术发展趋势预测 963
第九章 光刻胶研制知识产权总体态势对产业格局与竞争态势的影响 968
第十章 中国光刻胶专利总体布局的建议 973