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硅化学机械抛光液系列
安集微电子(上海)有限公司
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产品特点:粗抛液:高研磨速率(1-2微米/分钟),高稀释比(1:20-1:40)精抛液:超低表面缺陷,超低表面粗糙度,高稀释比(1:10-1:20)