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硅化学机械抛光液系列
安集微电子(上海)有限公司
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产品特点：粗抛液：高研磨速率(1-2微米/分钟)，高稀释比(1：20-1：40)精抛液：超低表面缺陷，超低表面粗糙度，高稀释比(1：10-1：20)