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铜/阻挡层化学机械抛光液系列
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铜/阻挡层化学机械抛光液系列

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安集微电子(上海)有限公司
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产品特点:铜抛光液:高研磨速率(0.5-1微米/分钟),高稀释比(>=10x)阻挡层抛光液:研磨速率高(0.1微米/分钟),可调选择比

 

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