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邀请报告嘉宾邓海
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邀请报告嘉宾邓海

光刻公司TOK的fellow
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  邓海,2014年2月起任光刻公司TOK的fellow。在此之前,一直在Intel公司的芯片尖端光刻材料部门担任感光高分子材料的研制、开发和应用的高级主任工程师,Program manager。在Intel期间,和德克萨斯州(University of Texas)著名的Grant Willson教授研究室,康乃尔大学(Cornell University)的Ober教授研究室、大阪大学的Tagawa教授研究室,以及美国国际标准局(NIST)进行协作科研。和Ober合作,用分子玻璃光刻50纳米以下线条的论文,被Science杂志编入Editor’s Choice。从此分子玻璃成为EUV领域的热门,影响了EUV光刻胶的研发进程。

  报告题目:Patterning Technology Trendsand New Material Challenges

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