一、中国新兴半导体材料十年历程
中国半导体材料在过去的十年中,涌现了一批新兴的半导体材料企业,如江丰电子、上海新傲、上海新阳、南大光电、北京科华、安集微电子等公司。这些中国本土培养起来的材料公司经过了初创期的无畏和艰辛,经历了全球金融危机过程的困惑和挣扎,于2009年以后进入一个向好发展的转折期。十年里经历了成长的历练,度过了生存期的考验。2011年日本海啸让全球半导体行业重新思考供应链的可靠性和可持续性,这也为我们中国本土材料企业带来了新的机遇。我们有意识,也开始有能力尝试走出国门,寻求更广阔但更具挑战的海外市场!这也标志着中国半导体材料公司经过十年的发展,已经步入一个全新的发展时代!
二、国产半导体材料企业现状
过去十年,通过企业的自身努力和02专项的大力支持,本土材料企业整体处于上升趋势,具体体现在业务规模和经营范围在扩大,团队更加成熟,生存与发展的实力在提升。从初期的以成熟技术节点替代品切入市场,到逐步开始介入领先技术节点产品的开发,与国际先进水平的技术差距逐步缩小,本土品牌效应开始初显,产品进入国际市场已迈开了第一步,半导体材料产品“中国制造”开始被业界龙头用户英特尔、台积电等认可。中国材料企业已经从原来的“被动”挤进用户,开始出现了用户“主动”邀请合作的新局面。
三、面临的挑战和机遇
随着中国半导体材料企业的快速发展,我们自身成长的困难和瓶颈也开始显现,主要有以下几方面:
在营运方面,系统性管理变得越来越重要。产能扩充、研发水平提升、团队建设和培训模式的建立齐头并进。需要足够宽的技术和人才平台支持企业向海外扩充过程中的客户群的扩大并能向海外提供远距离的服务。如何紧追集成电路新技术的步伐和周期成长?如何进一步扩大国内市场覆盖率?如何保证有足够的实力和资源走出国门?
在技术开发方面,新技术、新应用不断出现。摩尔定律延伸、三维集成电路(TSV)、大尺寸晶圆、新器件、新材料不断推陈出新给材料企业带来新的机遇的同时伴随更高的挑战。以CMP研磨工艺为例,该工艺已从最初成熟的3-4个步骤扩展到如今20纳米及以下节点的近20步工艺,其技术难度是前所未有的。20/14nm集成电路工艺技术革命性地引入了FinFET器件,芯片中所有鳍片的高度尺寸都必须由同一次CMP研磨工序进行定义,对不同材料的去除速率、选择比以及表面粗糙度和缺陷都要求精准至埃(分子级),其挑战性可见一斑。
在市场方面,地区性及大客户驱动的特点依旧明显。以化学机械研磨液为例,2012年全球集成电路用CMP研磨液约10亿美元,并有近20%的年增长速度,大部分市场集中在海外,国内市场所占份额不足10%,技术节点也落后一到两代。因此,在服务好国内用户的前提下,中国半导体材料企业从自身发展的高度和广度来讲都需要更快地走向海外市场,这对于我们而言挑战和机会都是并存的。
四、个案说明
以安集微电子为例,技术创新和成本优势是公司产品的核心竞争力。安集微电子经过这些年的发展,成功开发的铜/阻挡层及二氧化硅研磨液、硅通孔、光刻胶去除剂等技术,核心产品已经进入用户端,并实现批量销售。其中铜/阻挡层及二氧化硅研磨液具有高平坦化效率、高研磨速率、低缺陷、以及成本优势。硅通孔产品技术领先、产品多样。光刻胶去除剂具有高去除速率和低成本优势。安集微电子以扎实的技术、全面服务用户的经验、价格优势、以及快速的反应,已经在市场得到用户广泛认可,并开始迈出走向世界的第一步。
近年来,在02专项和材料联盟的鼎立支持下,安集微电子在“十一五”项目执行期间建立了8英寸CMP研磨液研发平台,实现国产集成电路研磨液产业化零的突破,产品成功用于大规模生产线。在这之后,通过“十二五”项目执行,建立12英寸研磨液研发平台,产品成功用于45/40nm生产线。28nm工艺节点产品正在与中芯国际共同开发,产品同时被国外代表性用户采用。安集微电子正在作为中国集成电路研磨液供应商被业界一流用户认可。
随着国家对20/14nm集成电路工艺技术的进一步支持,安集微电子将攻克该产业技术由平面转向立体给研磨及清洗带来的全新挑战,开发满足FinFET特殊需求的系列研磨液及清洗液。安集微电子在成长为具有国际水平集成电路材料供应商的道路上又将迈出显著一步。
五、企业发展的一些思考
企业成长壮大的道路,是一个不断寻找机遇,迎接挑战,解决难题的螺旋上升过程。企业竞争优势是什么?产品、技术及市场如何定位?是每个企业家要时时思考的根本问题。除了能够提供国内用户优质产品及服务外,我们如何走出国门,融入业界国际平台,把握行业及技术方向?如何把成熟技术规模化并使之长久可持续?如何寻求业界企业间的相互合作,使核心技术与产品互补,文化相融,实现独立发展加联姻合作?如何使企业发展速度、生存抗风险能力大幅度提升?相信在02专项、材料联盟、用户、投资人的协同扶持和支持下,中国本土半导体材料行业将进入一个辉煌时期!一批新兴本土半导体材料企业在世界地图上定会争得一块属于我们的版图!