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获奖项目 |
12吋工艺线用248nm光刻胶产品开发与量产技术 |
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获奖单位 |
北京科华微电子材料有限公司 |
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奖项介绍 |
北京科华研发团队从原料开发、配方的设计与优化出发，搭建了248nm光刻胶技术平台，开发出了系列化光刻胶产品，产品技术指标与应用性能均达到国际同类产品的相同水平。产品涵盖0.25微米-14nm工艺节点，在国内主流集成电路制造企业实现批量化应用。 |
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获奖项目 |
12英寸集成电路先进制程用电子级硫酸关键技术研发与应用 |
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获奖单位 |
湖北兴福电子材料有限公司 |
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奖项介绍 |
湖北兴福依托自身资源优势，从源头控制三氧化硫的高纯性，采用自主知识产权的工艺路线生产超高纯硫酸，实现了产品指标检测自动化，检测元素数量可达60多种。产品已在8-12英寸先进制程客户实现批量稳定供货。 |
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获奖项目 |
硬掩模铜大马士革工艺蚀刻残留物去除剂 |
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获奖单位 |
安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
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奖项介绍 |
安集微电子通过对新一代光刻胶去除机理的研究及创新，成功开发出硬掩模铜大马士革工艺蚀刻残留物去除剂，实现进口替代，产品在40～28nm技术节点实现量产应用。 |
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获奖项目 |
集成电路用超高纯氯化氢的研发及产业化 |
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获奖单位 |
中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 |
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奖项介绍 |
派瑞特种气体有限公司开发出气体生产、充装和分析检验等整套生产工艺及分析方法，制备出5N高纯氯化氢气体，产品性能指标达到国际同类产品水平，并已批量应用于国内半导体企业。 |