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安集科技荣获“行业杰出贡献奖”

安集科技荣获“行业杰出贡献奖”

来源:
安集微电子
2021/04/23
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2021年4月22日,上海集成电路行业协会二十周年庆典活动暨第六届一次会员大会在上海国际会议中心隆重举行。

在本次庆典活动中,大会颁布了两个重要奖项,分别是20家“行业新芯奖”及30家“行业杰出贡献奖”,评选企业涵盖上海市集成电路设计、制造、封装、测试和设备材料整个产业链企、事业单位有贡献的企业。分别从企业行业地位、创新能力、可持续发展、市场认可度等多个维度进行综合评选,安集科技获得“行业杰出贡献奖”殊荣。

安集科技主营业务为关键半导体材料的研发和产业化,目前产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂,主要应用于集成电路制造和先进封装领域。公司成功打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液和光刻胶去除剂的垄断,实现了进口替代,使中国在该领域拥有了自主供应能力。

在化学机械抛光液板块,安集科技积极加强并全面开展全品类产品线的布局,旨在为客户提供完整的一站式解决方案。一方面,安集科技化学机械抛光液包括硅抛光液,浅槽隔离(STI)抛光液,介质层抛光液,钨抛光液,铜以及铜阻挡层抛光液,硅通孔(TSV)抛光液和基于氧化铈磨料的抛光液等系列产品。另一方面,抛光后清洗液是化学机械抛光工艺过程中使用的配套材料,包括铜制程抛光后清洗液,钨制程抛光后清洗液,铝制程抛光后清洗液以及抛光垫清洗液等系列产品。

安集科技化学机械抛光液产品已供应国内外多家逻辑芯片和存储芯片制造商,并成为国内主流的抛光液供应商,已成功用于130-14nm逻辑芯片工艺、存储芯片工艺和三维集成工艺,10-7nm技术节点产品正在研发中。同时,公司还基于化学机械抛光液技术和产品平台,支持客户对于不同制程的需求,定制开发用于新技术新工艺的化学机械抛光液。另外,为了支持第三代半导体发展,公司已积极开展相应抛光液产品的技术开发与测试验证。

在光刻胶去除剂板块,安集科技专注致力于攻克领先技术节点难关并提供相应的产品和解决方案。根据光刻胶下游应用领域不同,光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品。
安集科技先后获得“中国半导体材料十强企业”、“上海市高新技术企业”、“上海市小巨人企业”、“上海市专利示范企业”、“2020中国企业专利实力500强及中国半导体企业专利100强”等荣誉。

今天,安集科技在此重要的行业活动中,获此殊荣是再次对我们的认可,更是17年来所有安集人努力奋斗获得的荣誉!感谢一路支持我们的各级政府,我们的用户,投资人及各方各界的朋友们!砥砺前行,安集人在路上!

颁奖现场

奖杯


会议现场