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全球光刻胶专利分析报告简介(四)

全球光刻胶专利分析报告简介(四)

来源:
2016/08/18
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  全球光刻胶专利按有效专利拥有量排名前十的专利权人如下图所示,依次为日本东京应化、日本信越化学、美国陶氏化学、日本住友化学、日本富士胶片、美国安智电子、日本合成橡胶、韩国东进世美肯、美国IBM、韩国三星电子。其中日本企业5家,美国企业3家,韩国企业2家。各个公司光刻胶专利申请量、法律状态、公开国情况、尤其是技术特长有很大的差别。

 

 

  材料和零部件联盟对全球光刻胶专利进行了系统而深入的分析,包括全球光刻胶研制专利概况;欧洲、美国、日本、韩国、中国、台湾六大地区光刻胶专利比较;不同种类光刻胶专利状况分析;全球十大光刻胶公司专利状况深度分析;中国光刻胶专利状况分析等。研究报告着重描述了全球专利申请量、专利申请趋势、专利法律状态、专利分布区域、专利权人分布、专利权人引用状况、专利核心概念、专利地图、技术领域分类表、核心专利、专利权人共申请专利情况、顶级专利权人技术定位等。

  《全球光刻胶产业专利分析报告》共计468页,459个图表,并可附5483件光刻胶专利全文。为从事光刻胶研发、生产、投资的企事业单位在战略制定、技术定位、产品开发等方面提供了非常有价值的参考信息。如有需要请联系王艳梅010-82357517/18701286298

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