搜索

 

     联系我们      English       版入口

>
关于召开ICMtia—PALL联合技术讲座的通知

关于召开ICMtia—PALL联合技术讲座的通知

来源:
2017/12/19
浏览量

  在半导体芯片制造及平板显示制造工艺中,如何减少和控制“缺陷及污染”是大家必须面对的棘手技术难题。缺陷和污染成因复杂,不仅对芯片制造工艺的研发进程、成品率有着重大影响,也是为半导体行业提供高质量材料和设备的厂商所面临的一大技术挑战。基于此集成电路材料和零部件产业技术创新战略联盟联合美国Pall公司组织召开缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用技术讲座,本次讲座名额有限,请报名者务必参加会议,欲报从速。会议具体安排如下:

  讲座主题:缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用

  培训讲师:黄丕成 David Huang,Ph.D(美国颇尔公司副总裁/ICMtia专家咨询委员会特聘专家)

  讲座时间:2018年3月8日(周四/全天)

  会议地点:北京市丽亭华苑酒店

  培训费用:1200元/人(联盟成员单位优惠价),2000元/人(非联盟成员单位价格),费用包括:全天课时费 + 培训讲义费 + 工作午餐

  联系人:邓希,dengxi@icmtia.com,13810427396

  报名方式:请于2018年1月22日之前将下述报名表发送会议联系人dengxi@icmtia.com,过期不再保留名额。报名学员经审核通过后,会务组将于收到回执三天内以邮件或短信方式通知本人。

 

技术讲座报名表

 

单位名称        
姓名 职务 负责业务 手机号码 电子邮箱
         
         
         

 

ICMTIA-PALL联合技术讲座 – 缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用

 

讲师:黄丕成 博士, David Huang, Ph.D david_huang@pall.com

(颇尔 Pall Corporation副总裁 / ICMtia专家咨询委员会特聘专家)

 

【关于讲座】

 

  讲座简介:重点是怎样减少和控制 “缺陷及污染“, 这是个在半导体晶片及平板显示制造业中大家必须面对的棘手技术难题。缺陷和污染的成因复杂,和具体的工艺应用条件关系紧密,去除或控制难度大。它不仅对晶片制造工艺的研发进程,成品率有着重大影响,也是为半导体行业提供高质量的材料和设备的厂商一大技术挑战。

  本课程讲解过滤技术在高科技(包括半导体及平板显示)中的应用。过滤技术的分类,半导体制造路线图及对缺陷和污染的要求。这里,会讨论缺陷的来源,分类,控制及预防。对重金属离子污染的成因,污染对晶片性能造成的影响,去除污染物对提高成品率的作用,来认识过滤技术对高科技制造业的重要性及紧迫性。通过对缺陷和污染的成因分析,应用高端过滤技术减少缺陷污染,提高半导体耗材质量,提供高端材料;加快晶片制造工艺研发,提高晶片成品率。过滤在半导体及平板显示业减少缺陷及污染的应用包括:使用的化工原料,光刻,蚀刻,精磨及清洗等工艺。

  为了帮助学生更好的了解及应用过滤技术,我们也将讨论过滤理论,包括气体,液体过滤,金属杂质的去除。作为过滤的核心技术,我们也将讨论过滤膜以便了解其材料性质和与其化学材料的兼容性。介绍过滤器的组装,测试及流体力学原理。最后,简介过滤产品,包括颇尔过滤器的选择和应用。

 

你会学到什么:

  1. 半导体及平板显示业市场走向

  2. 半导体及平板显示制造业路线图,对缺陷及污染的要求

  3. 缺陷及污染的成因,来源及分类

  4. 纳米颗粒的去除

  5. 金属离子的成因,污染及控制

  6. 过滤膜材料性质及其化学材料兼容性

  7. 过滤机理,过滤器组装

  8. 过滤器选择及应用

 

适宜听众:参与电脑晶片及平板显示制作及提供耗材设备的技术员,工程师,技术经理及高校研究生。

 

日程: 一天. 上午 / 过滤在减少和控制缺陷的应用;下午 / 过滤技术基础及过滤器的选择

 

【Program 内容】

  Morning 上午

General Introduction 简介

  · Filtration and High Tech Industries 过滤与高科技

  · Classification of Filtration 过滤的分类

  · High Tech Industry Market and Future Trend 高科技与将来发展趋势

  · Roadmap for Semiconductor & Flat Panel Display 半导体及平板显示制造业路线图

Defect Control and Yield Improvement 缺陷的控制与成品率的改善

  · Particle Defect 固体颗粒缺陷

  · Metal Contamination 金属污染

  · In-coming Material Defect 进料缺陷

  · Process Defect 工艺缺陷

  · Defect and Yield 缺陷与成品率

For Semiconductor Manufacturing 过滤在半导体制成中的应用

  · Chemical Solutions 化工液体材料

  · Lithography 光刻

  · Wet Etch Clean 湿蚀,清洗

  · CMP 化学机件抛光

  · Gas Purification 气体净化

For Flat Panel Display 过滤在平板显示制成中的应用

  · Chemical & Solutions 化工液体材料

  · Lithography 光刻

  · Wet Etch Clean 湿蚀干净

Digital Printing 过滤在数字印刷中的应用

  · Degas 去气体

  · Particulate Removal 去固体颗粒

 

  Afternoon 下午

Filtration Technology 过滤技术

  · Air Filtration 空气·过滤

  · Liquid Filtration 液体过滤

  · Heavy Metal Removal 重金属离子分离

Filter Media 过滤介质及过滤机理

  · Membrane 过滤膜

  · Fiber 纤维

  · Metal media 金属介质

  · Inorganic Media 无机介质

  · Membrane Surface Modification 过滤膜表面处理

Filter Device 过滤器

  · Work Flow 制作工艺流程

  · Flow Dynamics 流体力学

  · Filter Characterization 过滤器检测

Pall Products & Applications 颇尔过滤产品及运用

  · Wet Processing 湿法工艺

  · Gas Purification 气体净化

 

【关于讲师】

 

黄丕成 博士 -- 美国颇尔公司副总裁

技术服务部; 半导体材料与工艺专家

 

 

  黄丕成博士现任颇尔公司副总裁,技术服务部。曾任高级全球研发总监,负责新产品开发用于半导体,太阳能,平板电视生产制作工业。加入颇尔之前,曾任普莱克斯公司CMP研发总监。希捷,英特尔公司主任/高级工程师。黄博士二十多来年长期任职于世界500强公司,从技术骨干到高管,拥有丰富的一线半导体晶片制作工艺,耗材研发及科研管理经验。黄博士也曾有过八年的材料基础科学研究的经历,曾任职于意大利国家科学院材料所,美国加州伯克利劳伦斯实验室。

  黄博士获得美国加州伯克利大学材料科学工程博士,曾在麻省理工学院及澳大利亚科学院学习新产品开发及工程管理,2000年在英特尔公司工作时曾获得英特尔成就奖(IAA,英特尔颁发给有重大贡献的职工)。他获得多项用于半导体晶片,硬盘及半导体工业耗材制作的专利,发表多篇学术论文, 国际会议主旨演讲。他曾任中国半导体国际技术年会(CSTIC)及中国太阳能国际技术年会(CPTIC)主席,也曾但任过有关美国学术会议委员。

 

颇尔公司官网:http://pall.biogo.net/ (中文) https://www.pall.com (English)

暂时没有内容信息显示
请先在网站后台添加数据记录。