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C-MRS 2015

C-MRS 2015

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  “中国材料大会”是中国材料研究学会的最重要的系列会议,每年举办一次。大会宗旨是为我国从事新材料科学研究、开发和产业化的专家、学者、教授、科技工作者、政府有关的管理部门和领导、企业家及其它相关人员搭建一个交流平台,交流和共享材料研究的最新成果,达到互相促进共同提高的目的,并提高新材料在我国国民经济和社会发展中的地位和作用。“中国材料大会2015”已于2015年7月10-14日在贵州省贵阳市召开,会议由中国材料研究学会发起,中国材料研究学会和贵阳市会展经济促进办公室联合主办。大会共设30个分会场,包括4个国际分会和26个国内分会,征文内容涵盖能源与环境材料、新型功能材料、陶瓷和高分子材料、高性能结构材料、材料设计、制备与评价等材料领域。此外,还同期举行材料教育论坛、材料科技期刊论坛、新材料企业与专家对接会,以及新材料实验室设备展览会。

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组委会成员

中科院上海微系统与信息技术研究所所长
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中科院上海微系统与信息技术研究所所长助理
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浙江大学硅材料国家重点实验室主任
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教授级高级工程师,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺”(02专项)总体组专家,北京多维电子材料技术开发与促进中心主任,中国半导体行业协会支撑业分会秘书长,有研新材料股份有限公司总经理助理。  近15年来专注于微电子材料领域科技创新与产业技术发展战略研究、关注在全产业链背景下的中国集成电路材料产业发展与预测、相关政府项目建议、鼓励集成电路材料产业发展政策研究等。参与国家02专项“十
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所属单位
华南师范大学彩色动态电子纸显示技术研究所所长
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所属单位
哈尔滨工业大学化工学院教授、博导、系主任
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所属单位
中国科学院半导体研究所研究员、博士生导师
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所属单位
北京大学教授、博士生导师
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所属单位
中国科学院化学研究所副所长
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所属单位
清华大学教授
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江南大学教授
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员
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中国科学院微电子研究所先导工艺研发中心工程师
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报告题目:电子束光刻胶中的聚合物材料  报告简介:在微电子工艺和纳米加工中,电子束光刻胶是比较常用的高分辨率的图形掩模材料。电子束光刻胶的重要材料是有机聚合物。文中论述了各种用于电子束光刻胶的聚合物材料,从聚合物的单体结构,聚合物的不同组成,分子量范围及其分布,以及在电子束光刻胶中的表征,说明了他们对于电子束光刻胶性能的影响。光刻工艺的变化对于聚合物材料在光刻时的表现也起着重要的作用。作者最后列举
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中国科学院微电子研究所工程师
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东北大学 材料各向异性与织构教育部重点实验室
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大会报告

超饱和硫掺杂硅材料制备及性能研究
ZnO/Si-NPA的场发射性能研究
Ag-Cu-Sn三元系富Ag-Cu区域450℃等温截面图的测定
用于有机器件封装的有机/无机交替结构薄膜工艺及控制
高质量硅基砷化镓材料的获得
六角结构MnNiGa薄膜的结构、磁性和输运性质研究

通知

联系人:宋三年
邮箱:songsannian@mail.sim.ac.cn 
电话:13818144065