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“缺陷控制&先进过滤技术在半导体工业中的应用”技术讲座在北京顺利举办
发布时间:2018-06-14 作者:ICMtia

2018年6月14日,由集成电路材料和零部件产业技术创新战略联盟(以下简称”联盟”)组织召开的主题技术讲座——“缺陷控制&先进过滤技术在半导体工业中的应用”(第二期)在北京顺利举办,本次讲座特邀请联盟专家咨询委员会特聘专家、美国Pall公司副总裁DavidHuang黄丕成博士担任讲师,来自广东先导稀材股份有限公司、大连保税区科利德化工科技开发有限公司、广东华特气体股份有限公司、贵州威顿晶磷电子材料股份有限公司、绿菱电子材料(天津)有限公司、天津华海清科机电科技有限公司、清华大学、湖北鼎龙控股股份有限公司等公司与科研院所共计二十余人参加了本次讲座。

石总讲话_副本

材料和零部件联盟秘书长石瑛会前讲话

david讲话_副本

讲师Dr.huang与学员互动热烈

在半导体芯片制造及平板显示制造工艺中,如何减少和控制“缺陷及污染”是大家必须面对的棘手技术难题。缺陷和污染成因复杂,不仅对芯片制造工艺的研发进程、成品率有着重大影响,也是为半导体行业提供高质量材料和设备的厂商所面临的一大技术挑战。黄博士针对上述行业难点并结合自身丰富的行业经验,对半导体市场走向、制造业路线图、缺陷控制与成品率改善、光刻&蚀刻洁净对缺陷及污染的要求,气体过滤及净化要求、过滤膜材料性质、介质及化学材料兼容性,过滤器的选择及应用等方面做了深入浅出的讲解与分析,讲座的最后,黄博士还结合自身经验针对学员们提出的工作中遇到的的困惑和难题做了分享,现场气氛融洽,讲师与学员之间互动热烈。

课后学员们表示受益匪浅,本次技术讲座既有效的推广普及了缺陷控制知识,提高了对过滤技术在半导体工业的重要性及紧迫性的认识,也对拓宽自己的行业知识面起到了积极的作用。

合影_副本

技术讲座合影留念